El procés de producció de plaques solars

Descripció del procés específic de fabricació de cèl·lules solars

(1) Tallar: utilitzant un tall multilínia, la vareta de silici es talla en hòsties de silici quadrades.

(2) Neteja: utilitzeu mètodes convencionals de neteja d'hòsties de silici per netejar i, a continuació, utilitzeu una solució àcida (o àlcali) per eliminar 30-50um de la capa danyada a la superfície de l'hòstia de silici.

(3) Preparació de camussa: es realitza un gravat anisotròpic a l'hòstia de silici amb una solució alcalina per preparar una camussa a la superfície de l'hòstia de silici.

(4) Difusió de fòsfor: utilitzeu una font de recobriment (o una font líquida, o una font sòlida de escates de nitrur de fòsfor) per a la difusió per fer una unió PN més, i la profunditat de la unió és generalment 0.3-0 .5um.

(5) Gravat perifèric: la capa de difusió formada a la superfície perifèrica de l'hòstia de silici durant la difusió curtcircuitarà els elèctrodes superior i inferior de la bateria, i la capa de difusió perifèrica s'elimina emmascarant el gravat humit o el gravat en sec per plasma.

(6) Traieu la unió posterior PN més. La unió posterior PN més s'elimina normalment mitjançant un gravat o mòlta humit.

(7) Fabricació dels elèctrodes superiors i inferiors: utilitzant evaporació al buit, niquelat sense electros o impressió i sinterització de pasta d'alumini. Primer es fabrica l'elèctrode inferior, seguit de l'elèctrode superior. La impressió de pasta d'alumini és un mètode de procés que s'utilitza àmpliament.

(8) Producció de pel·lícula antireflex: per reduir la pèrdua de reflexió, s'ha de cobrir una capa de pel·lícula antireflex a la superfície de l'hòstia de silici. Els materials per fer la pel·lícula antireflex són MgF2, SiO2, Al2O3, SiO, Si3N4, TiO2, Ta2O5, etc. El mètode del procés pot ser el mètode de recobriment al buit, el mètode de recobriment d'ions, el mètode de pulverització, el mètode d'impressió, el mètode PECVD o el mètode de polvorització. .

(9) Sinterització: sinteritza el xip de la bateria a la placa base de níquel o coure.

(10) Classificació de la prova: segons les especificacions dels paràmetres especificats, classificació de la prova.